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當前位置:首頁技術文章摩方精密推進超材料研發(fā)進程

摩方精密推進超材料研發(fā)進程

更新時間:2024-05-27點擊次數(shù):455


清華大學李曉雁教授課題組采用面投影微立體光刻設備(microArch® S240,精度:10 μm)制備了特征尺寸在幾十至幾百微米量級的多種桁架、平板和曲殼微米點陣材料。

該團隊通過原位壓縮力學測試研究并對比了多種不同結構的微米點陣材料的變形特點和力學性能。該研究表明,基于極小曲面的點陣材料能夠表現(xiàn)出比傳統(tǒng)的桁架點陣材料更為優(yōu)異的力學性能,同時其光滑、連續(xù)、無自相交區(qū)域的特點使得其在構筑結構功能一體化的微納米材料方面具有重要的應用前景。